半导体DI水设备-芯片材料用去离子水制造系统

萧兴旺
2021-03-10

仟净专注半导体DI水(去离子水)设备的生产制造,半导体标准如下:
水质标准:

①电阻率:≥18MΩ-cm(250C) (颗料≥0.05um)≤1 个/ml②金属离子:(Na、Cl、Fe、Cu、Ca、k)≤10PPt③出水压力: ≥4Kg/cm2

验收方式方法:

1. 电阻率以在线检测计连续监测 8 小时合格为准。

2. (颗料≥0.05um)≤1 个/ml 以委托合法公司检测检验合格为准

3. 各项重金属离子:(Na、Cl、Fe、Cu、Ca、K)10ppt 为准)。

4.出水压力:4KG/CM2

低TOC去离子水设备工艺